Fiche technique CPF2-S

Le convoyeur de poudre TH2 CPF2-S est synonyme de:

Précision, rapidité, stabilité à long terme, répétabilité, documentation, facilité d'utilisation
Le CPF2-S est un convoyeur de poudres gravimétrique haut de gamme. Deux circuits de régulation indépendants et fermés pour la poudre et le gaz porteur garantissent sa précision et son excellente stabilité de transport. Il est désormais également équipé pour le transport de poudres submicroniques.

Revêtements très fins de la plus haute qualité

Le CPF2-S de la TH2-Ruhr est un convoyeur de poudre très précis, rapide, stable à long terme et robuste. Éprouvé et qualifié dans l'industrie aéronautique, il est particulièrement adapté à d'autres secteurs industriels dans lesquels des cycles de pulvérisation courts, une grande stabilité du processus, la répétabilité et la traçabilité du processus sont importants. Le CPF2-S est optimisé à la fois pour des temps de régulation très courts et pour une régulation très précise en fonctionnement continu. La régulation s'effectue à l'aide d'une boucle de régulation thermique du débit massique du gaz, indépendante du flux de poudre, et d'une boucle de régulation mécanique-gravimétrique du débit massique de la poudre.

Le CPF2-S convient à tous les procédés de projection thermique tels que la projection plasma, HVOF, HVAF, la projection à la flamme de poudre, le soudage laser de poudre et autres procédés apparentés.

Grâce à son système de réservoir modulaire, il est possible de transporter des poudres submicroniques de << 3μm, des poudres superfines de <10μm, des poudres fines de <25μm et des granulations de poudre de 5 à 125μm. Pour ceux qui veulent faire du sablage HVOF, le CPF2-S peut transporter de la poudre de sablage jusqu'à une granulométrie <700μm (EKF 60).

Le positionnement et le raccordement des réservoirs dans le boîtier sont très simples. L'utilisation de récipients individuels pour la poudre est envisageable pour un échange rapide lors du changement de poudre. Un masque de travail séparé est disponible pour enregistrer la quantité de poudre dans le récipient utilisé, ce qui facilite l'utilisation

Le CPF2-S est équipé de deux lignes de poudre indépendantes, commutables et utilisables simultanément.

La commande s'effectue via l'IHM propre au convoyeur de poudre ou, en cas d'intégration, via l'IHM de l'installation de projection de métal. La documentation du processus est enregistrée sur une durée de fonctionnement de 30 jours, traçable et facilement lisible.

Le nouveau réservoir de poudre pour les poudres submicroniques <<3μm est un point fort particulier. Il permet un transport fonctionnel et sec des poudres submicroniques, en alternative à la pulvérisation en suspension. Cette extension de la gamme de poudres utilisables dans le domaine des poudres submicroniques est une étape importante dans la technologie de projection thermique.

• Deux lignes de poudre commutables ou utilisables simultanément
• Réservoir de poudre pour les poudres submicroniques <<3μm
• Réservoirs de poudre pour les poudres microniques, tailles standard 3.5l et 5l
• Disques de transport S, L, H et XH pour le transport de poudres pour différentes quantités et applications, quantités transportées de 0,5-10g à 20-800g
• Deux boucles de contrôle fermées pour le contrôle du débit massique du gaz porteur et le contrôle du débit massique gravimétrique basé sur une conception de disque de transport de type balance.
• Régulation du gaz porteur par la dernière génération de régulateurs thermiques de débit massique de gaz à haute stabilité.
• Précision du transport de la poudre en fonctionnement continu avec un écart maximal de < +/- 2%*, d'où une grande stabilité et une grande sécurité du processus. (*150g/min pour la poudre NiCr20 atomisée au gaz).
• API et matériel ultramodernes
• Surveillance en temps réel, enregistrement, sauvegarde et exportation des paramètres de processus
• Enregistrement des recettes et des préréglages de la vitesse de rotation du disque de transport permet une montée en puissance rapide, économisant ainsi du temps, des matériaux et des fluides coûteux.
• Fonctionnement autonome et contrôle à distance. Intégrable dans des systèmes existants et des processus surveillés par des paramètres grâce à l'interface Ethernet ou à d'autres systèmes de bus de terrain.
• IHM avec PC industriel et grand écran tactile séparé de 12"(304mm), amovible en option
• Grand affichage clair des paramètres de processus, avertissement en cas d'écart par rapport aux valeurs limites définies
• Chauffage de la cuve et du gaz de poudre pour le traitement de poudres submicroniques et superfines en cas d'humidité de l'air élevée
• Plage de pression standard pour 10bar et 20 bar en option.
• Changement facile de récipient et de poudre
• Design: séparation gaz/courant