Datenblatt CPF2-S

Der TH2-Pulverförderer CPF2-S steht für:

Präzision, Schnelligkeit, Langzeitstabilität, Wiederholbarkeit, Dokumentation, einfache Bedienung
Der CPF2-S ist ein gravimetrischer high end Pulverförderer. Zwei unabhängige, geschlossene Regelkreise für Pulver und Trägergas garantieren seine Präzision und ausgezeichnete Förderstabilität. Er ist jetzt auch ausgestattet für die Förderung submikroner Pulver

Feinste Beschichtungen höchster Qualität

Der CPF2-S der TH2-Ruhr ist ein sehr präziser, schneller, langzeitstabiler und robuster Pulverförderer. Bewährt und qualifiziert in der Luftfahrtindustrie, ist er besonders geeignet für weitere Industriebereiche, in denen kurze Spritzzyklen, hohe Prozessstabilität, Wiederholbarkeit und Nachverfolgbarkeit des Prozesses wichtig sind. Der CPF2-S ist sowohl auf sehr kurze Regelzeiten, als auch auf eine hochpräzise Regelung im Dauerbetrieb optimiert. Die Regelung erfolgt über je einen geschlossenen, vom Pulverfluss unabhängigen, thermischen Gasmassenfluss-Regelkreis, und einen mechanisch-gravimetrischen Pulver-Massenfluss-Regelkreis.

Der CPF2-S eignet sich für alle thermischen Spritzverfahren wie, Plasmaspritzen, HVOF, HVAF, Pulverflammspritzen, Laser-Pulverschweißen und andere verwandte Verfahren.

Aufgrund des modularen Behältersystems lassen sich <<3μm submikrone Pulver, <10μm superfeine Pulver, <25μm feine und Pulverkörnungen im Bereich 5 -125μm fördern. Wer HVOF-Stahlen will, kann mit dem CPF2-S Strahlpulver bis zu einer Körnung von <700μm (EKF 60) fördern.

Positionierung und Anschluss der Behälter im Gehäuse sind sehr einfach. Denkbar ist der Einsatz von pulverindividuellen Behältern zum schnellen Tausch bei Pulverwechsel. Für die Speicherung der Pulvermenge im genutzten Behälter, ist eine gesonderte Arbeitsmaske zur erleichterten Bedienung vorhanden.

Der CPF2-S ist mit zwei unabhängigen, umschaltbaren, gleichzeitig nutzbaren Pulverlinien ausgestattet.

Die Bedienung erfolgt über die pulverförderereigene HMI, oder bei Integration über die HMI der Metallspritzanlage. Die Prozess-Dokumentation ist über eine Betriebsdauer von 30 Tagen gespeichert, nachverfolgbar und einfach auslesbar.

Ein besonderes Highlight ist der neue Pulverbehälter für submikrone Pulver <<3μm. Er ermöglicht eine funktionelle, trockene Förderung submikroner Pulver, alternativ zum Suspensionsspritzen. Diese Erweiterung des verwendbaren Pulverspektrums in den Bereich der submikronen Pulver, ist ein Meilenstein in der Thermischen Spritztechnologie.

• Zwei umschaltbare bzw. gleichzeitig nutzbare Pulverlinien
• Pulverbehälter für submikrone Pulver <<3μm
• Pulverbehälter für mikrone Pulver, Standardgrößen 3.5l und 5l
• Förderscheiben S, L, H und XH für die Förderung von Pulver für unterschiedliche Mengen und Anwendungen, Fördermengen 0,5-10g bis 20-800g
• Zwei geschlossene Regelkreise für die Trägergas-Massenfluss-Regelung und gravimetrische Massenfluss-Regelung basierend auf einem Waage-Förderscheiben Design
• Trägergas Regelung durch die neueste Generation an hochstabilen, thermischen Gas-Massenfluss Regler.Trägergas Regelung durch die neueste Generation an hochstabilen, thermischen Gas-Massenfluss Regler.
• Genauigkeit der Pulverförderung im Dauerbetrieb mit max. Abweichung < +/- 2%* ergeben hohe Stabilität und Prozesssicherheit. (*150g/min bei gasverdüstem PulverNiCr20)
• Modernste SPS und Hardware
• Echtzeitüberwachung, Protokollierung, Speicherung und Export der Prozessparameter
• Speicherung von Rezepten und Voreinstellungen der Drehzahl der Förderscheibe ermöglicht ein schnelles Hochfahren, spart damit Zeit, teure Werkstoffe und Medien
• Stand Alone Betrieb und Remote Control. Integrierbar in bestehende Systeme und parameterüberwachte Prozesse durch Ethernet Schnittstelle oder andere Feldbussysteme
• HMI mit Industrie PC und großem, separatem 12“(304mm) Touchscreen, optional abnehmbar
• Große, übersichtliche Anzeige der Prozessparameter, Warnung bei Abweichung von definierten Grenzwerten
• Behälter- und Pulvergasheizung für die Verarbeitung submikroner und superfeiner Pulver bei hoher Luftfeuchtigkeit
• Druckbereich Standard für 10bar und optional 20 bar.
• Einfacher Behälter- und Pulverwechsel
• Design: Gas-Strom Trennung